韩国运动平台制造商VAD Instrument(以下简称VAD)主要为客户开发定制化的精密运动平台,当中包括提供给需要在真空环境下工作的制程设备。
真空应用与要求
许多精密工业制程都必须在真空环境下进行,目的是减少任何气体分子在制程中对加工品的影响。而制程中所涉及到的相关运动控制零组件如导轨,基体等金属材料,以及电机散热问题,则需要经过严格考虑,并采用兼容真空环境的光栅系统,包括耐高温、高洁净度、降低整体气体量释出等特殊设计。
TONiC UHV超高真空兼容光栅
目前VAD大部分平台型号均采用雷尼绍TONiC系列光栅系统,视精度要求配置不同种类的栅尺。
VAD总裁Song, Baek-Kyun先生说道:“VAD一般平台型号配置RTLC系列钢带栅尺,如果涉及真空应用、像显示面板AOI检测设备或半导体制程设备等,我们会配置更高精度的RELM系列栅尺,配置兼容真空的TONiC读数头,连接到位于真空腔外的接口。
另外我们开发用于半导体EUV光刻机的膜板检测设备,由于精度要求达到ppm等级,需要采用雷尼绍高端的RLE系列激光尺定位系统,激光发射头安装在XY平台上,而雷尼绍可以提供性能稳定的激光尺,这在市场上比较少见。”
雷尼绍TONiC UHV超高真空兼容光栅系列,从读数头、电缆到栅尺都是必须经过专门设计,真空压力高达10-10 Torr,读数头配置RFI屏敝线缆,其基本工作原理,规格性能与我们在大气压下使用的标准型TONiC型号无异。
但是,UHV光栅的读数头在设计上消除了气密孔,并且由高洁净的真空兼容材料和粘合剂特制而成,以避免对加工产品质量造成损坏。
近乎零的热膨胀系数栅尺
TONiC光栅可搭配多款不同特性的栅尺,并且适合在真空环境应用。Song,Baek-Kyun先生解释他们选择栅尺的准则:“我们部分高端机型,采用了雷尼绍RELM系列栅尺,主要看中它近乎零的热膨胀系数,以确保定位精度在温差范围变化大的环境下得以保持,要知道真空腔的温差可达100 °C。”
雷尼绍RELM是一款20μm栅距栅尺,在1 m长度内精度高达±1 μm,以坚固的雷尼绍专利材料ZeroMet制成,其热膨胀系数仅为0.75±0.35 μm/m/°C(20 °C时),栅尺可利用背面自带的不干胶带进行安装,同时也支持机械安装方式以避免不干胶在真空中释出气体。
Song, Baek-Kyun先生继续说:“我们看好未来真空应用设备的市场需求,尤其是半导体和显示面板等精密工业制程。目前VAD正在开发更多相关的制程平台。在质量管控方面,我们正在采用雷尼绍XL-80系列激光干涉仪对设备出厂前进行精度检测,大大增加客户对我们的设备性能表现的信心。”
(来源:雷尼绍Renishaw)